光譜純石墨內坩堝操作規範與溫度控製
光譜純石墨內坩堝環境與設備要求
潔淨度控製
操作環境需達到ISO Class 5(百級)潔淨度標準,防止微粒汙染。
手套箱內操作時,需保持O2與H2O含量均≤1ppm。

設備匹配性
爐膛尺度需與坩堝外徑匹配,間隙≤2mm以削減熱輻射損失。
測溫元件(如鉑銠熱電偶)需校準至±1℃精度,並防止與坩堝直接觸摸。
光譜純石墨內坩堝環境與設備要求
潔淨度控製
操作環境需達到ISO Class 5(百級)潔淨度標準,防止微粒汙染。
手套箱內操作時,需保持O2與H2O含量均≤1ppm。
